寬帶通濾光膜

近期成功的應用，是用于制造低輻射玻璃(LOW-E玻璃)，可以用于發展一種反射而又可透過太陽光的建筑窗口玻璃。這在能源費用不斷上漲的今天，光學薄膜必將發展成一個大的產業。

由此可見，光學薄膜在光學裝置中起到了重要的作用，我們甚至可以認為，沒有光學薄膜就沒有近代光學系統。光學薄膜的應用領域也隨著科學技術的發展而不斷發展，光學薄膜與光電子薄膜結合，與能源、環保等其他新技術結合，除了不斷地創造著新概念、新應用外，還會不斷地產生新興產業，推動著光學薄膜朝著更寬廣的范圍、更縱深的領域發展。

金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

金屬真空鍍膜與您分享磁場不均勻的影響

由于實際的磁控濺射裝置中電場和磁場不是處處均勻的，也不是處處正交的，都是空間的函數。寫出的三維運動方程表達式是不可解的，至少沒有初等函數的解。所以磁場的不均勻性對離子的影響，也即對成膜不均勻性的影響是難以計算的，有效方法就是配合實驗具體分析。是用中頻孿生靶柔性卷繞磁控濺射鍍膜裝置實驗得出的靶磁場均勻性和成膜厚度均勻性的對應關系。

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金屬真空鍍膜與您分享電阻加熱蒸發

電阻加熱蒸發電阻加熱蒸發方式是簡單也常用加熱方法，一般適用于熔點低于1500℃的鍍膜材料，通常將線狀或片狀的高熔點金屬(W、Mo、Ti、Ta、氨化硼等)做成適當形狀的蒸發源，裝上蒸鍍材料，通過電流的焦耳熱使鍍料熔化、蒸發或者升華，蒸發源的形狀主要有多股線螺旋形、U形、正弦波形、薄板形、舟形、圓錐筐形等。同時，該方法要求蒸發源材料具有熔點高:飽和蒸氣壓低:化學性能穩定，在高溫下不應與鍍膜材料發生化學反應:具有良好的耐熱性，功率密度變化小等特點，采用大電流通過蒸發源使之發熱，對膜材直接加熱蒸發,或把膜材放入石墨及某些耐高溫的金屬氧化物(如A202，BO)等材料制成的坩堝中進行間接加熱蒸發。

電阻加熱蒸發鍍膜具有局限性:難熔金屬具有低的蒸氣壓，難以制成薄膜:有此元素容易和加熱絲形成合金:不易得到成分均勻的合金膜。由于電阻加熱蒸發方式結構簡單、價格低廉、易于操作，因而是一種應用很普遍的蒸發方式。