金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車(chē)零部件、家電類(lèi)、機(jī)械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

真空鍍膜pvd廠(chǎng)與您分享當(dāng)前國(guó)內(nèi)薄膜技術(shù)研究的主要熱點(diǎn)

近年來(lái)納米超硬膜技術(shù)已成為涂層領(lǐng)域研究開(kāi)發(fā)的熱點(diǎn)，自2000年以來(lái)在國(guó)內(nèi)已進(jìn)入持續(xù)開(kāi)發(fā)階段。超硬膜定義為硬度大于40GPa，眾所周知，金剛石、立方氮化硼、非晶態(tài)類(lèi)金剛石等具有超硬膜的本征硬度，其研究及應(yīng)用已經(jīng)歷了較長(zhǎng)時(shí)間，但其膜系本身的某些特性卻制約了應(yīng)用領(lǐng)域的拓展。如金剛石薄膜并不適合于鐵基材料的切削加工，而立方氮化硼薄膜由于難于與刀具基體結(jié)合、易剝落，且高純度的c-BN制備困難，也尚未達(dá)到商業(yè)應(yīng)用水平。因此近年來(lái)薄膜技術(shù)的開(kāi)發(fā)熱點(diǎn)更多的集中于非本征超硬膜的研究。非本征硬度超硬薄膜的超硬性和力學(xué)性能主要來(lái)自于它們組成物的性質(zhì)和超細(xì)顯微結(jié)構(gòu)，其組成物多為氧化物、碳化物、氮化物及硼化物，而其顯微結(jié)構(gòu)達(dá)到了納米數(shù)量級(jí)。

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真空鍍膜pvd廠(chǎng)與您分享低真空（102～10-1Pa）

在低真空狀態(tài)下，每立方厘米內(nèi)的氣體分子數(shù)為1018～1018個(gè)。氣體分子密度與正常大氣壓有很大差別，氣體中的帶電粒子在電場(chǎng)作用下，會(huì)產(chǎn)生氣體導(dǎo)電現(xiàn)象。這時(shí)，氣體的流動(dòng)也逐漸從黏稠滯流狀態(tài)過(guò)渡到分子狀態(tài)，這時(shí)氣體分子的動(dòng)力學(xué)性質(zhì)明顯，氣體的對(duì)流現(xiàn)象完全消失。因此，如果在這種情況下加熱金屬，可基本上避免與氣體的化合作用，真空熱處理一般都在低真空區(qū)域進(jìn)行。此外，隨著容器中壓強(qiáng)的降低，液體的沸點(diǎn)也大為降低，由此而引起劇烈的蒸發(fā)，而實(shí)現(xiàn)所謂"真空冷凍脫水"。在此真空區(qū)域，由于氣體分子數(shù)減少，分子的平均自由程可以與容器尺寸相比擬，并且分子之間的碰撞次數(shù)減少，而分子與容器壁的碰撞次數(shù)卻大大增加。

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真空鍍膜pvd廠(chǎng)與您分享高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)

高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)是將裝有鍍膜材料的坩堝放置在高頻螺旋線(xiàn)圈的中央，使鍍膜材料在高頻電磁場(chǎng)的感應(yīng)下產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流電流和磁滯效應(yīng)，致使膜層升溫，直至氣化蒸發(fā)。蒸發(fā)源一般有水冷高頻線(xiàn)圈和石墨或者陶瓷(氧化鎂、氧化鋁、氧化硼等)坩堝組成。高頻電源采用的頻率為1萬(wàn)至幾十萬(wàn)赫茲，輸入功率為幾至幾百千瓦，膜材體積越小，感應(yīng)頻率越高。感應(yīng)線(xiàn)圈頻率通常用水冷銅管制造。高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)方法的缺點(diǎn)是不易對(duì)輸入功率進(jìn)行微調(diào)，它有下述優(yōu)點(diǎn):

1、蒸發(fā)速率大:

2、蒸發(fā)源溫度均勻穩(wěn)定，不易產(chǎn)生鍍料液滴飛濺的現(xiàn)象，也可以避免沉積在薄膜上產(chǎn)生現(xiàn)象:

3、蒸發(fā)源一次裝料，溫度控制比較容易，操作簡(jiǎn)單。