靶材保養(yǎng)：為避免在濺射過程中因?yàn)椴粷崈舻那惑w導(dǎo)致短路和起弧，有必要階段性的除去濺射軌道中間及兩側(cè)堆積的濺射物，這也有助于用戶可以連續(xù)以大功率密度進(jìn)行濺射。

靶材儲(chǔ)存：我們建議用戶將靶材無論是金屬或陶瓷類保存在真空包裝中, 尤其是貼合靶材更需要保存在真空條件下，以避免貼合層氧化影響貼合質(zhì)量。對(duì)于金屬靶材的包裝，我們建議少需要包裝在潔凈的塑料袋中。

在2005年后，由于外購(gòu)銀泥發(fā)生變化，雜質(zhì)含量變動(dòng)很大，采用原有的工藝根本無法再生產(chǎn)高純銀。經(jīng)熔煉后生產(chǎn)的陽極板質(zhì)量為，Au % 3.11~ 9.98%，Ag 68.76% ~84.62%，Cu 0.14%~1.76%，

近十余年來，有關(guān)在鎳基單晶高溫合金上制備Pt改性鋁化物涂層的研究已被廣泛報(bào)道。沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司是東北大學(xué)科技產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司下屬的國(guó)有全資企業(yè)，始創(chuàng)于1973年，是國(guó)內(nèi)貴金屬行業(yè)的知名企業(yè)之一。但鉑影響恒溫氧化、循環(huán)氧化和抗熱腐蝕性的具體機(jī)制及鉑在涂層中的互擴(kuò)散行為還有待進(jìn)一步研究。文獻(xiàn)采用電化學(xué)方法研究了在金屬鎢、鈦、錸、鋯及不銹鋼和非金屬玻碳等基體上電鍍鉑的初期形核階段，發(fā)現(xiàn)Re基體不適宜電鍍鉑。

第三代及之后的鎳基單晶高溫合金含有Re達(dá)6 wt.%，且含有較多的Al和其它活潑性高的金屬元素，這些元素在強(qiáng)酸性的電鍍Pt液中易腐蝕，會(huì)影響鉑鍍層結(jié)合力和厚度均勻性。

在貴金屬范疇內(nèi)，金、銀、鉑、鈀由于具有良好的機(jī)械物理性能，延展性優(yōu)越，因此通常經(jīng)行鑄造、鍛造以后，便很容易拉制成各種規(guī)格的絲材。新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的(Ar)離子化。在事實(shí)上，金、銀、鉑、鈀無需進(jìn)行中間退火，便可以從0.6cm以上一直拉到0.01cm，也就是說經(jīng)冷拉后的截面積可以縮小99.95%以上，如果經(jīng)過中間退火，鉑可以拉至0.0076mm。資料介紹，如果采用沃拉斯頓法鍍銀后，可以冷拉至0.001mm,銠不能進(jìn)行冷加工，但加熱后也具有很大的延伸性能，還是可以拉制成一定程度的銠絲，銥在室溫下硬而脆，因此也不能加工。