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派瑞林F粉是一種性能優(yōu)異的涂層材料,由于其優(yōu)異的性能和的真空氣相沉積工藝使其廣泛應用于許多領域。作為保形防護材料在許多方面也優(yōu)于其他常見涂層材料;派瑞林 F粉已在航天航空、電子、半導體等諸多高科技領域得到了廣泛應用,未來,隨著工藝、技術和產品質量的不斷完善,派瑞林F粉在國內的應用規(guī)模將快速增長。
派瑞林F粉別名:Parylene F粉、八氟對二二聚體,該材料為含氟的高分子涂層材料。膜層具有高通透性、厚度均勻、耐酸堿、介電特性好、光電和器械等領域都有著廣泛的應用。
氣相沉積與金屬噴鍍不同,氣相沉積不受視線阻礙,需鍍膜的產品,其所有的表面皆會被氣體單體緊密覆蓋,而達到精細均勻、高質量的鍍膜表層。
對于腐要求的粘結釹鐵硼磁體如果使用時(包括裝配,焊接)溫度不超過130度可以選擇采用,特別是對于小規(guī)格磁體不適用電泳的條件下具有很高的效率和良好的抗腐蝕能力,可以滿足鹽霧120小時。
離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結合強度,同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層,一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高,可采用離子電流較大能級也較高的離子源,如霍爾離子源或陽極層離子源。
陽極層離子源,與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形(長方形或圓形)窄縫中施加強磁場,在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長,特別適合鍍大工件,如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散,且能級分布太寬。一般適用于大型工件,玻璃,磨損,裝飾工件。但應用于光學鍍膜并不太多。